6月24日(火) AndTech「レジスト材料の基礎と微細化・高解像度化に向けた応用技術・今後の展望 ～脱PFASに向けたリソグラフィ材料開発の動向～」WEBオンラインZoomセミナーを開催予定

鴨志田技術事務所 鴨志田 洋一 氏 、メルクエレクトロニクス株式会社 仁川 裕 氏 にご講演をいただきます

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株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、レジスト材料について、第一人者の講師からなる「レジスト材料の基礎と微細化・高解像度化に向けた応用技術・今後の展望 ～脱PFASに向けたリソグラフィ材料開発の動向～」講座を開講いたします。