imec、ラムリサーチのドライレジスト技術をEUV向け28nmピッチBEOL向けに認定

Lam Research(ラムリサーチ)は1月14日、新開発のドライフォトレジスト(ドライレジスト)技術について、2nmプロセス以下のロジック回路におけるダイレクトプリントによる28nmピッチバックエンド・オブ・ライン(BEOL)の認定をimecより受けたことを発表した。

Lam Researchは、ASMLおよびimecと共同で、これまでのスピンオン液体レジストとは根本的に異なるCVDによるレジスト塗布技術を開発したことを2020年に発表している。同技術は、気相で反応性前駆体を使用してレジストを堆積する方法であり、その後時間をかけて、EUVリソグラフィ向けに高解像度化の検討が進められてきたという。